BAHAN ANTIBAKTERI DAN FOTOKATALIS NANOPARTIKEL BESI DAN SENG MENGGUNAKAN TEKNIK LASER ABLASI SATU LANGKAH
Paten
BAHAN ANTIBAKTERI DAN FOTOKATALIS NANOPARTIKEL BESI DAN SENG MENGGUNAKAN TEKNIK LASER ABLASI SATU LANGKAH
Invensi ini memperkenalkan metode pembuatan nanopartikel berbasis seng dan besi menggunakan teknik laser ablasi satu langkah dalam medium cair untuk aplikasi fotokatalis dan antibakteri. Proses ini dimulai dengan memotong dan membersihkan pelat seng murni, yang kemudian direndam dalam larutan garam besi sulfat dan diproses menggunakan laser nanosekon dengan panjang gelombang 532 nm dan 1064 nm. Analisis struktur menggunakan X-ray diffraction (XRD) mengidentifikasi fasa Fe2O3 dan ZnO, sementara karakterisasi menggunakan transmission electron microscope (TEM) menunjukkan bahwa nanopartikel yang dihasilkan berbentuk bulat. Nanopartikel ini diuji dalam kemampuan fotokatalis untuk degradasi rhodamine 6G, dengan tingkat efisiensi antara 40-100%. Uji antibakteri terhadap Staphylococcus aureus (S. aureus ATCC 6538) menunjukkan daya hambat sebesar 96% dalam 12 jam dan 99% dalam 24 jam. Invensi ini menawarkan solusi efektif untuk pemurnian lingkungan serta aplikasi antibakteri.
P00202415241
13 Desember 2024
2024
2024-1727957817-pbtf
B-32533/III.10.6/TK.11.02/11/2024
Pusat Riset Fotonika
nyudasari@gmail.com
Badan Riset dan Inovasi Nasional
Paten Biasa
Nanoteknologi
2
0
-
- Nurfina Yudasari
( Pusat Riset Fotonika ) - Kirana Yuniati Putri
( Pusat Riset Fotonika ) - Isnaeni
( Pusat Riset Fotonika ) - Iyon Titok Sugiarto
( Pusat Riset Fotonika ) - Davin Philo
( Pusat Riset Fotonika ) - Rahmat Setiawan Mohar
( Pusat Riset Fotonika )
- Mardiana Julita
( RA PR Fotonika BRIN )