METODE DEPOSISI BERTINGKAT PADA LAPISAN TIPIS DIAMOND LIKE CARBON (DLC) MENGGUNAKAN PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PECVD) DENGAN METAL KATALIS
Paten
METODE DEPOSISI BERTINGKAT PADA LAPISAN TIPIS DIAMOND LIKE CARBON (DLC) MENGGUNAKAN PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PECVD) DENGAN METAL KATALIS
Invensi ini berkaitan dengan metode deposisi bertingkat lapisan tipis diamond-like carbon (DLC) menggunakan plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) dengan metal katalis. Lebih khususnya, metode deposisi bertingkat lapisan tipis diamond-like carbon (DLC) menggunakan plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) dengan metal katalis Ni, Ti, dan Cu untuk menghasilkan lapisan DLC dengan kualitas karakterisasi yang baik dengan pengujian mencakup kekerasan, water contact angle (WCA), degree of crystalinity (DoC), nilai Id/Ig, serta ketebalan lapisan. Metode ini diawali dengan tahapan preparasi substrat melalui proses penghalusan mekanis bertingkat, pembersihan kimiawi, dan pengeringan, sehingga diperoleh permukaan bebas kontaminasi dan memiliki kekasaran yang sesuai untuk proses deposisi. Selanjutnya dilakukan perlakuan plasma argon untuk mengaktifkan permukaan substrat, dilanjutkan dengan proses difusi karbon menggunakan campuran gas asetilen dan argon pada kondisi operasi tertentu untuk membentuk lapisan dasar yang homogen. Setelah itu, dilakukan deposisi DLC utama dengan parameter tegangan dan arus yang diatur secara spesifik, sehingga terbentuk lapisan bertingkat yang seragam, stabil, dan memiliki ketebalan antara 12–18 mikrometer. Hasil pengujian menunjukkan bahwa lapisan DLC memiliki kekerasan dalam rentang 218,71–226,41 VHN, water contac angle (WCA) 92,38°–94,99°, degree of crystallinity (DoC) 5,41–12,3, rasio Raman Id/Ig 0,84–1,21, serta ketebalan 12–18 mikrometer.
S00202514554
15 Desember 2025
2025
2025-1759506919-k2xf
NOMOR B-37108/III.11.1/TK.11.02/11/2025
Pusat Riset Teknologi dan Proses Pangan
karinaanggraeni27@gmail.com
Badan Riset dan Inovasi Nasional
Paten Sederhana
Kimia Material
1
0
01 Juli 2026
IDS000014330
- Karina Anggraeni
( Pusat Riset Teknologi dan Proses Pangan ) - Wiwien Andriyanti
( Pusat Riset Teknologi dan Proses Pangan ) - Bayu Mahdi Kartika
( Pusat Riset Teknologi dan Proses Pangan ) - Anjar Anggraini Harumningtyas
( Pusat Riset Teknologi dan Proses Pangan ) - Suprapto
( Pusat Riset Teknologi Akselerator ) - Vika Arwida Fanita Sari
( Direktorat Pengelolaan Laboratorium, Fasilitas Riset, dan Kawasan Sains dan Teknologi ) - Intan Nur Musyarrofah
( Direktorat Pengelolaan Laboratorium, Fasilitas Riset, dan Kawasan Sains dan Teknologi )