METODE REKAYASA PERMUKAAN ELEKTRODA LAWAN Pt PADA DSSC DENGAN SENYAWA KOMPLEKS NIKEL–AMONIA DAN TEMBAGA–AMONIA
Paten
METODE REKAYASA PERMUKAAN ELEKTRODA LAWAN Pt PADA DSSC DENGAN SENYAWA KOMPLEKS NIKEL–AMONIA DAN TEMBAGA–AMONIA
Invensi ini berkaitan dengan metode rekayasa permukaan elektroda lawan pada sel surya tersensitisasi zat pewarna (DSSC) menggunakan senyawa anorganik larut air-amonia. Senyawa anorganik yang digunakan meliputi NiCl2.6H2O, dan CuCl2.2H2O yang dilarutkan dalam NH4OH. Rekayasa permukaan dilakukan dengan teknik spin-coating untuk mendeposisikan lapisan tipis senyawa anorganik NiO dan CuO di atas eletroda Pt. Modifikasi ini mengatasi keterbatasan metode deposisi Pt konvensional yang sering menghasilkan ketidakselarasan atau rongga pada permukaan. Lapisan hasil deposisi mampu menutup cacat struktural, meningkatkan sifat katalitik elektroda lawan, serta memperbaiki kinetika transfer elektron dari elektrolit ke molekul pewarna. Dengan demikian, kinerja perangkat DSSC mengalami peningkatan, termasuk peningkatan Voc, Jsc, FF dan η pada rekayasa permukaan menggunakan CuCl2.2H2O.
P00202513785
08 Desember 2025
2025
2025-1756962234-kodi
-
Pusat Riset Elektronika
yuliar.firdaus@brin.go.id
- Yuliar Firdaus
( Pusat Riset Elektronika ) - Lia Yuliantini
( Pusat Riset Elektronika ) - Jojo Hidajat
( Pusat Riset Elektronika )
- Evi Nur Azizah
( Universitas Pendidikan Indonesia ) - Mohammad Hatta
( Universitas Indonesia ) - Gita Rabelsa
( Institut Teknologi Bandung )